Deux systèmes de gravure ionique réactive pour le quartz et les chalcogénures, sur des substrats de 50 à 200 mm, à 20 nm/min jusqu'à 1 µm de profondeur.
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Nos deux PlasmaTherm 790 gravent le quartz et les verres de chalcogénures, sur des substrats de 50 à 200 mm.
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