Traduit de l'anglais
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Le banc de nettoyage aux solvants pour lithographie est un poste spécialisé dédié aux procédés aux solvants essentiels à la lithographie. Ce banc est utilisé pour des tâches telles que le nettoyage des masques et des substrats, le décapage de la résine photosensible ainsi que la manipulation sécuritaire de résine et d'autres composés organiques volatils. Il est conçu pour gérer efficacement les solvants inflammables, intégrant souvent des surfaces de travail ventilées, des bains d'immersion dédiés aux solvants et des pistolets de rinçage manuels. Cette configuration permet le nettoyage en profondeur des composants des systèmes d'enduction de lithographie et l'entretien général lié à la lithographie, assurant des conditions optimales pour la structuration à haute résolution et la fabrication de dispositifs.
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