Évaporation par faisceau d'électrons assistée par plasma d'ions (APS), avec contrôle optique in situ de l'épaisseur, pour des empilements jusqu'à 100 couches d'oxydes et de silice.
Devis sur demande
C'est l'un de nos deux principaux systèmes de dépôt, avec l'Intlvac Nanochrome. Une source de plasma d'ions (Advanced Plasma Source) y assiste l'évaporation par faisceau d'électrons. Un contrôle optique in situ (400 à 2500 nm) suit l'épaisseur de chaque couche, pour des empilements jusqu'à 100 couches : miroirs diélectriques, antireflets, filtres et séparateurs dichroïques.
Découvrez d'autres ressources qui pourraient soutenir vos travaux