Hitachi NX-5000 DUAL-FIB/SEM (Ethos)

Le Hitachi NX-5000 (Ethos) est un système à double faisceau sophistiqué qui intègre une colonne MEB à émission de champ froide pour l'imagerie nanométrique et une colonne FIB à Ga liquide. Cette combinaison permet la préparation précise de lames minces pour MET et la reconstruction 3D de microstructures de matériaux. Il est équipé d'un ensemble EDS/EBSD d'Oxford Instruments pour l'analyse élémentaire et cristallographique complète. Un système cryogénique Quorum (PP3010T) est disponible pour la préparation de matériaux mous. De plus, le NX-5000 propose un polissage aux ions Ar+ avec une troisième colonne, utilisée pour la finition des surfaces après l'usinage au Ga, à des énergies d'usinage de 1 ou 2 kV. La colonne MEB offre une résolution de 1,5 nm à 1 kV et de 0,7 nm à 15 kV, avec un courant de sonde variant de 5 pA à 10 nA, et des tensions d'accélération de 0,1 à 30 kV. Elle comprend des détecteurs intra-lentille SE/BSE (SE(U), BSE(U), BSE(L)) et un détecteur SE dans la chambre (SE(L)). La source d'ions de métal liquide Ga fournit un courant de sonde FIB maximal de 100 nA et une résolution FIB de 4 nm à 30 kV et de 60 nm à 2 kV.