Traduit de l'anglais
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L'Applied Material AM5000 est un système de gravure ionique réactive (RIE) polyvalent, faisant partie de la plateforme Applied Materials P5000, configuré pour la gravure de divers matériaux, notamment les diélectriques à base de silicium comme le dioxyde de silicium (SiO2) et le nitrure de silicium (Si3N4). Ce système permet de graver une large gamme de matériaux tels que le silicium, les oxydes, les nitrures, les métaux et les polymères. Il fonctionne avec une alimentation RF monofréquence (1000 Watts à 13.56 MHz) et comprend un mandrin électrostatique à régulation de température pour une gestion précise des procédés. L'AM5000 utilise divers gaz de procédé, dont le chlore (Cl₂), le tétrafluorométhane (CF₄), le trifluorométhane (CHF₃), l'hexafluorure de soufre (SF₆), l'oxygène (O₂) et l'argon (Ar), ainsi que l'azote (N2), l'octafluorocyclobutane (C4F8) et l'acétylène (C2H2). Il prend en charge des plaquettes jusqu'à 150mm, avec possibilité de traiter des pièces plus petites à l'aide d'une plaquette de support, assurant un contrôle précis, répétable et uniforme des dimensions critiques indispensables à la fabrication de semi-conducteurs.
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