Traduit de l'anglais
Gravure ionique réactive au fluor avec sas de chargement et outillage de 100 mm, pour gravure du silicium Bosch et cryogénique, d'oxyde, de nitrure et de métal.
60 $ US à 135 $ US / heureTous les tarifsVoir les tarifs
Gravure ionique réactive (RIE) utilisant des gaz à base de fluor, avec outillage de 100 mm et sas de chargement.
Capacités de procédé : procédé Bosch, gravure cryogénique du silicium, gravure de dioxyde de silicium (SiO2), de nitrure de silicium (Si3N4) et de métal.
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